ALD原子层沉积镀膜设备
一、设备概述: T-ALD原子层沉积系统是专门为科研和工业小型化量产用户而设计的多片沉积系统。该系统电气完全符合CE标准,广泛应用于微电子、纳米材料、光学薄膜、太阳能电池等领域。 二、产品优势: 先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。 三
建筑材料或制品单体燃烧试验室
JZDTS40建筑材料或制品单体燃烧试验室适用标准: GB/T20284-2006《建筑材料或制品的单体燃烧试验》配置:1、引风机2、排烟管道(测量区)3、收集器4、集气罩5、护栏6、燃烧室门7、小车8、观察窗9、燃烧室10、微机处理系统11、气体分析仪技术特性: 样品是安装在一个小推车上,其内
高低温试验箱
"适用范围 广泛应用于航空、航天、电子仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等作高低温渐变试验。耐寒性试验、低温贮存,温湿度试验,温湿度交变试验。以便对试品在拟定环境条件下的性能、行为作出分析及评价。"
1200℃大口径管式气氛炉
CNT生产的PECVD(等离子增强化学气相淀积)设备是一种用于在基片要用途:CNT管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域
标准煤质高温炉
适用范围及标准:标准煤质高温炉符合国标(GB/T212-2001)的标准要求,该高温炉广泛用于煤炭、冶金、电力、化工、建材、制药、科研等行业和部门进行煤的工业分析。
300°-1400°立式真空气氛管式电炉
该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境,应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀(CVD)、镀膜等新材料新工艺领域。
箱式电阻炉
本系列电阻系周期作业式,供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件淬火、退火、回火等热处理时加热用,高温炉还可作金属、陶瓷的烧结、溶解、分析等高温加热用。
坩埚炉SG2-1.5-10、SG2-3-10、SG2-5-10、SG2-7.5-10
坩埚炉SG2-1.5-10、SG2-3-10、SG2-5-10、SG2-7.5-10
全陶瓷纤维台车式电炉
电炉外壳由优质钢板焊接而成,连接件采用先进的数控机床加工,外观豪华,大气。工作室炉膛材料采用耐火纤维模块平铺而成,电阻带依靠陶瓷钉固定在侧墙上。节能达30%,加热温场均匀。加热元件采用0CR27AL7MO2优质高温电热合金元件,表面温度可达1420度。